X射線熒光光譜法玻璃熔片法測量爐渣時(shí)，可以使用純氧化物配比建立工作曲線。

X射線熒光光譜儀長時(shí)間停用后，可以直接調(diào)整電壓和電流至工作電壓和電流。

直讀光譜分析中檢查激發(fā)放電斑點(diǎn)，凝聚放電是好的，擴(kuò)散放電是不好的。

ICP矩焰形成通稱點(diǎn)火，和火焰原子吸收法一樣，都是把工作氣體點(diǎn)燃，形成高溫的火焰。

直讀光譜分析中，電極與試樣的距離對分析結(jié)果有影響。

ICPMS微波消解溶樣時(shí)開啟微波消解罐時(shí)應(yīng)戴好手套和防護(hù)眼鏡。

原子吸收光譜法測定被測元素，為了保證數(shù)據(jù)能夠上傳，必須將樣品編號輸完整。

原子熒光儀中檢測器與激發(fā)光源呈直角是為了消除激發(fā)光源對檢測原子熒光信號的干擾。

氧氮分析儀中稀土氧化銅的作用是將一氧化碳氧化為二氧化碳。

X射線熒光光譜玻璃熔片法中采用硝酸銨作為氧化劑，氧化劑只能以固體形式加入。