脫乙烷塔循環(huán)建立時(shí)，塔頂冷卻器循環(huán)水開的過大，會(huì)出現(xiàn)（）現(xiàn)象。

氣分裝置脫乙烷塔塔頂溫高，是由于（）引起。

對(duì)于氣體分餾裝置，在塔底溫度穩(wěn)定的情況下，一般塔頂壓力的控制方法是采用調(diào)節(jié)冷卻器的（）溫度和調(diào)節(jié)回流量的方法來調(diào)節(jié)塔頂?shù)膲毫Α?/p>

萃取裝置進(jìn)料量增大后，操作上應(yīng)采?。ǎ┐胧?。

碳四裝置切換反應(yīng)器作業(yè)前需要對(duì)待投用反應(yīng)系統(tǒng)進(jìn)行（）

生產(chǎn)中允許塔盤有少量泄漏，但正常生產(chǎn)泄漏量不能超過（）

碳四裂解反應(yīng)產(chǎn)物有（）

碳四裝置再生系統(tǒng)再生前必須確定（）是合格的。

除去儀表問題，脫乙烷塔壓力波動(dòng)實(shí)質(zhì)是（）被破壞。

氣溫升高時(shí)，氣體分餾裝置在操作上應(yīng)（）