“水擊”消除方法根本指導思想是（）

氣分裝置脫乙烷塔塔頂溫高，是由于（）引起。

對于氣體分餾裝置，在塔底溫度穩(wěn)定的情況下，一般塔頂壓力的控制方法是采用調(diào)節(jié)冷卻器的（）溫度和調(diào)節(jié)回流量的方法來調(diào)節(jié)塔頂?shù)膲毫Α?/p>

脫乙烷塔循環(huán)建立時，塔頂冷卻器循環(huán)水開的過大，會出現(xiàn)（）現(xiàn)象。

碳四裝置反應(yīng)器反應(yīng)溫度急劇上升的因素有（）

除去儀表問題，脫乙烷塔壓力波動實質(zhì)是（）被破壞。

引起脫異丁烷塔底溫高的原因，以下正確的是（）

碳四裝置反應(yīng)器原料來自于（）

進萃取裝置原料中異丁烷含量過高有利于提高（）

碳四裝置回流罐頂去低壓調(diào)節(jié)閥是（）