“水擊”消除方法根本指導(dǎo)思想是（）

氣體分餾裝置處理量超負(fù)荷生產(chǎn)時(shí)，操作上注意事項(xiàng)以下哪些是正確的（）

氣體分餾裝置處理量頻繁變化時(shí)，實(shí)際是氣體分餾裝置的（）頻繁被打破。

生產(chǎn)中允許塔盤有少量泄漏，但正常生產(chǎn)泄漏量不能超過（）

氣分裝置地下水罐的冷凝水來自于（）

碳四裝置催化劑再生前需要對(duì)待再生反應(yīng)系統(tǒng)做（）

氣溫升高時(shí)，氣體分餾裝置在操作上應(yīng)（）

進(jìn)萃取裝置原料中異丁烷含量過高有利于提高（）

如果解吸塔進(jìn)料量增大，需要對(duì)解吸塔進(jìn)行（）調(diào)整。

碳四裝置再生溫度超高的因素有（）