填空題X熒光分析基體的影響可分兩大類,一類是()引起的,另一類是(),表面結(jié)構(gòu)等造成的。
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火花源原子發(fā)射光譜分析儀的聚光鏡在分光室與激發(fā)電極架之間。
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X射線熒光光譜分析中,含吸附水的樣品會影響抽真空的效果,導(dǎo)致分析延時。
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X射線熒光光譜法玻璃熔片法測量爐渣時,可以使用純氧化物配比建立工作曲線。
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X射線熒光光譜玻璃熔片法中采用硝酸銨作為氧化劑,氧化劑只能以固體形式加入。
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原子熒光儀外表面可用濕抹布擦拭,但應(yīng)斷電,防止短路。
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從ICP-AES干擾原理出發(fā),使用標準加入法可以有效地消除光譜干擾。
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直讀光譜分析中,電極與試樣的距離對分析結(jié)果有影響。
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原子熒光儀更換空心陰極燈時應(yīng)先將主、輔電流調(diào)到零處,然后關(guān)閉主機電源才能換燈。
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ICP矩焰形成通稱點火,和火焰原子吸收法一樣,都是把工作氣體點燃,形成高溫的火焰。
題型:判斷題
原子吸收光譜法的標準曲線的濃度范圍應(yīng)包括被測元素的含量范圍。
題型:判斷題