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填空題

干法刻蝕的終點檢測有許多方法，通常采用的是（）終點檢測方法。

答案：殘余氣體質(zhì)譜分析、等離子室光發(fā)射譜分析和激光干涉

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【簡答題】實用的等離子體刻蝕工藝必須滿足哪些條件？

答案：

1.反應(yīng)產(chǎn)物是揮發(fā)性的；
2.選擇比率高；
3.刻蝕速率快；
4.具有好的終點靈敏性；
5.有好的各向異性刻蝕速率。

離子注入摻雜劑量偏差的原因主要來源于：（）、（）和可能的（）。例如：當(dāng)作²⁸Si⁺注入時，可能有真空系統(tǒng)中剩余氣體產(chǎn)生的（）也會同時注入。

答案：中性原子注入；二次電子效應(yīng)；相同荷質(zhì)比離子的注入；N₂⁺