患者,女,67歲,戴上頜活動(dòng)義齒一個(gè)多星期,出現(xiàn)上唇牽拉疼痛,右側(cè)時(shí)有咬頰黏膜,且出現(xiàn)惡心、嘔吐現(xiàn)象。檢查:缺失,已行可摘局部義齒修復(fù),義齒固位穩(wěn)定良好,上頜頰黏膜轉(zhuǎn)折處可見約2~3mm大小的潰瘍面,右側(cè)頰黏膜見2mm大小的血腫,下頜為雙側(cè)游離端義齒,側(cè)向咬合時(shí),工作側(cè)出現(xiàn)早接觸,余無異常。
下面哪項(xiàng)不是導(dǎo)致惡心、嘔吐的原因().
A.后緣基托過長(zhǎng)
B.后緣基托過厚
C.患者初戴義齒
D.基托后緣過短
E.基托后緣與組織不密合
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患者,女,67歲,戴上頜活動(dòng)義齒一個(gè)多星期,出現(xiàn)上唇牽拉疼痛,右側(cè)時(shí)有咬頰黏膜,且出現(xiàn)惡心、嘔吐現(xiàn)象。檢查:缺失,已行可摘局部義齒修復(fù),義齒固位穩(wěn)定良好,上頜頰黏膜轉(zhuǎn)折處可見約2~3mm大小的潰瘍面,右側(cè)頰黏膜見2mm大小的血腫,下頜為雙側(cè)游離端義齒,側(cè)向咬合時(shí),工作側(cè)出現(xiàn)早接觸,余無異常。
上頜頰黏膜出現(xiàn)牽拉疼痛的原因是().
A.印模不精確
B.頰黏膜轉(zhuǎn)折處緩沖不足
C.頰黏膜轉(zhuǎn)折處緩沖過多
D.頰黏膜轉(zhuǎn)折處基托邊緣過短
E.頰黏膜轉(zhuǎn)折處基托不密合
患者,男,缺失,余留牙正常,口底距舌側(cè)齦緣的距離為4mm,如果設(shè)計(jì)鑄造支架可摘局部義齒,設(shè)計(jì)PRI卡環(huán)組。
大連接體可采用().
A.舌桿
B.連續(xù)桿
C.帶連續(xù)桿的舌桿
D.舌板
E.唇桿
患者,男,缺失,余留牙正常,口底距舌側(cè)齦緣的距離為4mm,如果設(shè)計(jì)鑄造支架可摘局部義齒,設(shè)計(jì)PRI卡環(huán)組。
取本例患者下頜模型時(shí)應(yīng)采用何種印模方法().
A.解剖式印模
B.靜態(tài)印模
C.無壓力印模
D.功能性印模
E.一次印模
患者,男,缺失,余留牙正常,口底距舌側(cè)齦緣的距離為4mm,如果設(shè)計(jì)鑄造支架可摘局部義齒,設(shè)計(jì)PRI卡環(huán)組。
為減小游離端牙槽嵴負(fù)擔(dān)的措施中錯(cuò)誤的是().
A.選用塑料牙
B.減小人工牙頰舌徑
C.減少人工牙數(shù)目
D.減小基托面積
E.減低人工牙牙尖高度
患者,女,50歲,缺失,余牙正常,口底至舌側(cè)牙齦距離為10mm,設(shè)計(jì)鑄造可摘局部義齒修復(fù)。設(shè)計(jì)RPI卡環(huán)組。
如果用RPA卡環(huán)組代替RPI卡環(huán)組,則圓環(huán)形卡環(huán)臂的堅(jiān)硬部分應(yīng)位于基牙的().
A.頰側(cè)近中,觀測(cè)線上方的非倒凹區(qū)
B.頰側(cè)近中,觀測(cè)線下方的非倒凹區(qū)
C.頰側(cè)遠(yuǎn)中,觀測(cè)線上方的非倒凹區(qū)
D.頰側(cè)遠(yuǎn)中,觀測(cè)線上緣
E.頰側(cè)遠(yuǎn)中,觀測(cè)線下方的倒凹區(qū)
最新試題
取本例患者下頜模型時(shí)應(yīng)采用何種印模方法().
下列哪項(xiàng)不是修復(fù)前進(jìn)行的必要檢查和治療工作().
下頜牙槽嵴黏膜壓痛的最可能原因是().
為達(dá)到患者的主訴要求,最佳及最快速有效的治療方案為().
其疼痛原因最可能是().
基牙預(yù)備時(shí)應(yīng)制備出().
若檢查發(fā)現(xiàn)患牙有輕到中度叩痛,無松動(dòng),首先應(yīng)考慮().
下列哪項(xiàng)關(guān)于右上側(cè)切牙金瓷冠牙體預(yù)備的要求是正確的().
此時(shí)應(yīng)采取的措施是().
上頜結(jié)節(jié)頰側(cè)黏膜壓痛點(diǎn)的處理方法是().