A.與齦緣輕微接觸
B.與齦緣緊密貼合
C.稍離開(kāi)齦緣,以免壓迫齦組織
D.離開(kāi)齦緣越遠(yuǎn)越好,最好與所畫導(dǎo)線平齊
E.高出所畫的導(dǎo)線
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A.舌桿離開(kāi)齦緣至少3mm
B.舌桿與齦緣輕微接觸
C.舌桿離開(kāi)齦緣至少6mm
D.舌桿離齦緣越遠(yuǎn)越好,緊靠舌系帶
E.舌桿離開(kāi)齦緣至少1mm
A.多個(gè)前牙缺失,且前牙組織倒凹較大的患者
B.缺隙前后都有基牙且缺隙處組織倒凹較大者
C.單個(gè)前牙缺失患者
D.遠(yuǎn)中游離缺失,且無(wú)組織倒凹者
E.遠(yuǎn)中游離缺失,且組織倒凹較大者
A.活動(dòng)端基牙的負(fù)重較小
B.兩端基牙的應(yīng)力分布不很均勻
C.橋體下的牙齦組織也分擔(dān)了極少量的載荷
D.活動(dòng)端基牙會(huì)出現(xiàn)應(yīng)力集中
E.活動(dòng)連接處的屈矩為零
A.應(yīng)盡量寬大
B.不要壓迫牙齦
C.應(yīng)高度拋光
D.不能形成狹縫
E.分整鑄法和焊接法兩種
A.基牙牙冠缺損嚴(yán)重
B.橋體跨度長(zhǎng)
C.采用鄰鄰嵌體,牙尖斜度大
D.兩端固位體的固位力相差懸殊
E.力大
最新試題
暫時(shí)冠的目的不是()。
下列哪項(xiàng)不是影響全口義齒的穩(wěn)定因素()。
腭側(cè)基托應(yīng)設(shè)計(jì)到()。
從口內(nèi)取出可摘局部義齒印橫時(shí),一般先()。
鑄造側(cè)腭桿與余留牙的關(guān)系應(yīng)為()。
頜位關(guān)系記錄是用來(lái)記錄()。
不適合用鑄造金屬舌面板的情況為()。
下列哪項(xiàng)不屬于義齒的不穩(wěn)定因素()。
種植義齒的壽命應(yīng)至少在口腔內(nèi)持續(xù)使用超過(guò)()。
如余留牙舌側(cè)嚴(yán)重傾斜,應(yīng)選用的大連接體為()。