A.銀汞合金充填體有懸突
B.牙齒排列不齊
C.喜甜食
D.冠修復(fù)體不良
E.大量牙石
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A.10%~15%過(guò)氧化脲
B.10%~15%過(guò)氧化氫
C.20%~30%過(guò)氧化脲
D.30%過(guò)氧化氫
E.A和D
A.濕粘結(jié)技術(shù)是指在自酸蝕粘結(jié)技術(shù)中的操作技術(shù)
B.濕粘結(jié)技術(shù)主要是指牙釉質(zhì)全酸蝕技術(shù)
C.濕粘結(jié)技術(shù)就是要求酸蝕后的牙本質(zhì)表面必須保持濕潤(rùn)
D.濕粘結(jié)技術(shù)就是要求酸蝕后的牙釉質(zhì)表面必須保持濕潤(rùn)
E.濕粘結(jié)技術(shù)主要應(yīng)用于第五、第六代粘結(jié)劑中
A.口腔環(huán)境不佳
B.菌叢變化
C.缺乏舌運(yùn)動(dòng)
D.食物和唾液酸性增高
E.不良義齒刺激
A.牙槽骨吸收在牙根的頸1/3以內(nèi)
B.牙槽骨吸收在牙根的頸1/2以內(nèi)
C.牙槽骨吸收占根長(zhǎng)2/3以上
D.牙槽骨吸收達(dá)根長(zhǎng)的1/2
E.牙槽骨吸收達(dá)根長(zhǎng)的1/3
A.唾液成分
B.菌斑量
C.口腔衛(wèi)生習(xí)慣
D.修復(fù)體的光潔度
E.以上均是
最新試題
對(duì)可摘局部義齒基托功能的敘述,不正確的是()。
磁性附著體戴用后的注意事項(xiàng),不包括()。
在全口義齒排牙中,需接觸平面的是()。
選擇無(wú)牙頜托盤的錯(cuò)誤方法是()。
先制取初印模后,在初印模上均勻去出一層印模材料,然后再制取終印模是()。
取戴義齒時(shí)痛,應(yīng)()。
冠內(nèi)固位體的基牙牙冠齦距大于()。
磁性附著體屬于()。
可摘局部義齒游離端受力時(shí),主要表現(xiàn)是()。
患者采用固定義齒修復(fù),若缺牙間隙大于同名牙,可采取的符合美學(xué)的措施為()。