A.初印模
B.加壓印模
C.閉合式印模
D.解剖式印模
E.功能性印模
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A.向上、向后
B.向上、向外
C.向上、向內(nèi)
D.向后、向外
E.向上、向前
A.與磨牙后墊的前緣等高
B.與磨牙后墊的1/3等高
C.與磨牙后墊的1/2等高
D.與磨牙后墊的2/3等高
E.與磨牙后墊的后緣等高
A.1mm處
B.2mm處
C.3mm處
D.4mm處
E.5mm處
A.應(yīng)在上下唇系帶處制作后堤區(qū)
B.上頜硬區(qū)應(yīng)制作后堤區(qū)
C.上頜后堤區(qū)位于口腔前庭溝內(nèi)
D.上頜后堤區(qū)是上頜全口義齒后緣封閉區(qū)
E.頰棚區(qū)也稱為后堤區(qū)
A.頜弓前段向下、向前吸收
B.頜弓后段向上、向外吸收
C.下頜弓逐漸變小
D.牙槽嵴變低、變寬
E.腭穹隆變低、淺
最新試題
腭側(cè)基托應(yīng)設(shè)計(jì)到()。
下列哪項(xiàng)不是造成固定義齒基牙疼痛的原因()。
如余留牙舌側(cè)嚴(yán)重傾斜,應(yīng)選用的大連接體為()。
對(duì)于基托磨光面的要求,下列哪項(xiàng)是錯(cuò)誤的()。
下列關(guān)于磨牙后墊的描述,錯(cuò)誤的是()。
關(guān)于RPA卡環(huán),下列描述中錯(cuò)誤的是()。
后堤區(qū)指()。
為消除可摘局部義齒不穩(wěn)定,錯(cuò)誤的方法是()。
為增強(qiáng)樁冠固位的說法中,下列選項(xiàng)錯(cuò)誤的是()。
鑄造側(cè)腭桿與余留牙的關(guān)系應(yīng)為()。