多項(xiàng)選擇題影響等離子體蝕刻特性好壞的因素包括以下幾個(gè)方面（）。
A.等離子體蝕刻系統(tǒng)的形態(tài)
B.等離子體蝕刻的參數(shù)
C.光刻膠
D.待蝕刻薄膜的淀積參數(shù)條件
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1.多項(xiàng)選擇題濕法蝕刻具有以下哪些缺點(diǎn)（）。
A.化學(xué)藥品處理時(shí)人員會(huì)遭遇的安全問(wèn)題
B.反應(yīng)溶液及去離子水需花費(fèi)較高成本
C.光刻膠會(huì)產(chǎn)生附著性問(wèn)題
D.蝕刻不均勻
2.多項(xiàng)選擇題干法蝕刻通常指利用輝光放電方式，產(chǎn)生等離子體來(lái)進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)移的蝕刻技術(shù)。其中等離子體含有（）。
A.離子、電子
B.中性原子
C.分子
D.自由基
3.多項(xiàng)選擇題廣義而言，所謂的蝕刻技術(shù)可以分為（）。
A.干蝕刻
B.濕蝕刻
C.中性蝕刻
D.無(wú)側(cè)蝕蝕刻
4.多項(xiàng)選擇題在堿性氯化銅蝕刻中，造成蝕刻過(guò)度的原因可能有（）。
A.傳送速度太慢
B.pH值過(guò)高
C.蝕刻液比重偏低
D.蝕刻液溫度不足
5.多項(xiàng)選擇題在堿性氯化銅蝕刻中，造成蝕刻不足的原因可能有（）。
A.傳送速度太快
B.pH值太低
C.蝕刻液溫度不足
D.噴淋壓力不足
最新試題
電催化的本質(zhì)是什么？
題型：?jiǎn)柎痤}
自組裝單分子層（SAM）
題型：名詞解釋
簡(jiǎn)述離子液體在實(shí)際應(yīng)用中存在的問(wèn)題以及未來(lái)的研究重點(diǎn)。
題型：?jiǎn)柎痤}
宿主材料
題型：名詞解釋
不可通過(guò)調(diào)節(jié)溶液的性質(zhì)來(lái)改變有機(jī)電合成的選擇性。
題型：判斷題
伽伐尼式傳感器的原理是通過(guò)測(cè)量電解過(guò)程中的電壓差測(cè)定氣體濃度。
題型：判斷題
電化學(xué)窗口
題型：名詞解釋
改變電極電位將導(dǎo)致金屬電極表面電荷密度變化，從而使電極表面呈現(xiàn)可調(diào)變的Lewis酸-堿特征。
題型：判斷題
簡(jiǎn)述電催化的作用機(jī)制。
題型：?jiǎn)柎痤}
酶和微生物電池可將廢液中利用價(jià)值低的物質(zhì)轉(zhuǎn)化成高附加值的物質(zhì)。
題型：判斷題