質(zhì)譜儀中使被分析物質(zhì)電離成離子的部分。常見的有電子轟擊源EI、化學(xué)電離源CI、快原子轟擊源FAB等。

以質(zhì)譜中基峰（最強峰）的高度為100%，其余峰按與基峰的比例加以表示的峰強度為相對豐度，又稱相對強度

激發(fā)核通過非輻射途徑損失能量而恢復(fù)至基態(tài)的過程。

在外加磁場作用下，由化學(xué)鍵產(chǎn)生的感應(yīng)磁場使在分子中所處的空間位置不同的核屏蔽作用不同的現(xiàn)象

核外電子及其他因素對抗外加磁場的現(xiàn)象。