燈距是影響曝光速度與勻度的因素。當(dāng)光源一定時，版面照度與燈距平方成反比，照度均勻度與燈距成正比關(guān)系。

平版曬版中，主要應(yīng)用的光敏物質(zhì)是光分解型光敏物和光聚合型光敏物。

對圖層蒙版進(jìn)行濾鏡操作，和對圖層進(jìn)行濾鏡操作，其效果是一樣的。

曬版時，使用的感光物盡管是光敏物，在光照下能發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，有時卻能在亮室下而不必在暗室下操作。

在曬版過程中用到的化學(xué)藥品有的屬于光敏性物質(zhì)，具有光不穩(wěn)定性，有的具有強(qiáng)腐蝕性或劇毒性，而有的則是易燃易爆品，所以必須全面了解這些藥品的基本性能，防止發(fā)生危險和不必要的事故。

網(wǎng)點虛暈度是指網(wǎng)點邊緣區(qū)域密度過渡的快慢程度。過渡快的網(wǎng)點，其虛邊較寬，清晰度好，曬版時網(wǎng)點的還原再現(xiàn)性好。

裝版時，防止原版不平，應(yīng)防止折壓原版或膠帶過近。

矢量圖在縮放時會產(chǎn)生失真現(xiàn)象。

陽圖型PS版防止除臟曝光過度，可減少二次曝光時間。

曬版過程基本上是一個物理加工過程，它涉及到一定的光物理知識、表面物理性能等物理基礎(chǔ)知識。