燈距是影響曝光速度與勻度的因素。當(dāng)光源一定時(shí)，版面照度與燈距平方成反比，照度均勻度與燈距成正比關(guān)系。

曬版時(shí)，使用的感光物盡管是光敏物，在光照下能發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，有時(shí)卻能在亮室下而不必在暗室下操作。

陽(yáng)圖型PS版防止除臟曝光過(guò)度，可減少二次曝光時(shí)間。

翻轉(zhuǎn)型曬版機(jī)又可稱(chēng)為雙面曬版機(jī)，它的裝版準(zhǔn)備和曝光可同時(shí)交替運(yùn)行，工作效率高，封閉遮光性能好。

感光版的涂層越厚，它的反射能力越強(qiáng)，那么曬版時(shí)所需的曝光量越小，光滲量和光散射量相應(yīng)減少，將會(huì)造成圖文殘缺或空白部位上臟等故障。

陽(yáng)圖曬版時(shí)，若網(wǎng)點(diǎn)黑度較低，其網(wǎng)點(diǎn)部位也會(huì)透過(guò)一定量的光能而非完全不透光，使本該不曝光的部位也產(chǎn)生了部分曝光，導(dǎo)致印版的耐印力降低。

在歷史記錄控制面板中，刪除歷史記錄與撤銷(xiāo)歷史記錄是相同的，歷史記錄被刪除之后也可以恢復(fù)。

Photoshop中，與調(diào)整圖層不同，填充圖層不影響它們下面的圖層。

采用面光源曬版時(shí)，可通過(guò)縮小燈距和使用分光格將面光源分割成局部點(diǎn)光源等方式。既可提高曝光速度，又可減少散射光和漫射光。

曬版過(guò)程基本上是一個(gè)物理加工過(guò)程，它涉及到一定的光物理知識(shí)、表面物理性能等物理基礎(chǔ)知識(shí)。