A.熱處理
B.彎曲實(shí)驗(yàn)
C.無(wú)損檢測(cè)
D.拉伸實(shí)驗(yàn)
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A.表面張力
B.拉力
C.壓力
D.工作應(yīng)力
A.載荷
B.內(nèi)力
C.應(yīng)變
D.應(yīng)力
A.塑性變形
B.應(yīng)力
C.彈性變形
D.負(fù)荷形變
A.探頭不接觸工件,不需要耦合劑
B.探傷速度快
C.設(shè)備較簡(jiǎn)單、易操作
D.以上都對(duì)
A.增加
B.為零
C.減小
D.不變
最新試題
屬于γ射線(xiàn)探傷設(shè)備的操作故障有()。
產(chǎn)生干涉的兩列相干波,在振動(dòng)時(shí)會(huì)產(chǎn)生不同的波程差,波程差與波長(zhǎng)相關(guān)聯(lián),所以不同的波程差會(huì)出現(xiàn)()等現(xiàn)象。
對(duì)底片進(jìn)行評(píng)定時(shí),首先對(duì)底片進(jìn)行質(zhì)量檢查,不滿(mǎn)足要求的底片不予評(píng)定,質(zhì)量檢查項(xiàng)目有()。
表面活性劑分子在水或水溶液表面的吸附近于飽和時(shí),水或水溶液的極性表面在很大程度上就被表面活性劑分子覆蓋,這時(shí)水或水溶液的()。
下列關(guān)于照射場(chǎng)的大小對(duì)散射比的影像的說(shuō)法,錯(cuò)誤的有()。
標(biāo)準(zhǔn)試塊具有規(guī)定的(),這是標(biāo)準(zhǔn)試塊的基本要求。
當(dāng)障礙物尺寸Df< < 波長(zhǎng)λ時(shí),會(huì)出現(xiàn)以下()等現(xiàn)象。
板波的類(lèi)型有()。
用縱波直探頭確定缺陷平面位置時(shí)需要考慮的問(wèn)題有()。
磁粉檢測(cè)用的黑光燈發(fā)出的光包含有(),而把不需要的光線(xiàn)用濾光片過(guò)濾掉。