A．5°～10°
B．10°～15°
C．15°～20°
D．20°～25°
E．25°～30°
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A．所有取無牙頜印模的情況下
B．無合適成品托盤時(shí)
C．牙槽略低平、兩側(cè)吸收不一致
D．牙槽嵴過于低平
E．取研究模型時(shí)
A．邊緣應(yīng)與唇頰溝等高
B．寬度應(yīng)比上頜牙槽嵴寬2～3mm
C．唇頰系帶處應(yīng)有相應(yīng)的切跡
D．后緣應(yīng)平齊顫動(dòng)線
E．長度應(yīng)蓋過翼上頜切跡
A．前伸是否平衡
B．有無低牙
C．有無個(gè)別牙早接觸
D．頜位關(guān)系是否正確
E．有無息止間隙
A．上頜硬區(qū)
B．下頜舌骨嵴
C．下頜舌隆突
D．腭小凹
E．上頜結(jié)節(jié)
A．由基托和堤組成
B．基托可由熱凝樹脂和自凝樹脂制作
C．堤寬度在前牙區(qū)6mm，后牙區(qū)略寬，并延伸至基托后緣
D．堤可由熱凝樹脂和自凝樹脂制作
E．用下托確定平面
A．失牙時(shí)間太久舌體變大和頰部內(nèi)陷
B．人工牙覆蓋過小
C．人工牙覆蓋過大
D．磨牙后墊和上頜結(jié)節(jié)基托之間間隙過小
E．患者咬合力過大
A．上唇系帶區(qū)未緩沖
B．舌系帶區(qū)未緩沖
C．上頜腭側(cè)基托后緣伸展過長
D．下頜舌側(cè)基托后緣過長
E．上頜腭側(cè)基托后緣不密合
A．倒凹過大
B．義齒變形
C．義齒戴錯(cuò)
D．倒凹過小
E．粘膜過厚
A．義齒的平穩(wěn)度
B．基托情況
C．頜位關(guān)系
D．咬合關(guān)系
E．有無疼痛
A．后堤區(qū)組織柔軟、有一定可讓性
B．當(dāng)義齒承受壓力時(shí)、該區(qū)組織可以隨義齒而移動(dòng)
C．后堤區(qū)可在取印模時(shí)制作
D．后堤區(qū)的范圍在兩側(cè)翼上頜切跡之間
E．必須在工作模型上制作后堤區(qū)
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