A、干式顯象法
B、濕式顯象法
C、無(wú)顯象劑顯象法
D、以上各點(diǎn)
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A、施加顯象劑的時(shí)間
B、施加顯象劑到開(kāi)始觀察的時(shí)間
C、從顯象劑干燥到開(kāi)始觀察的時(shí)間
D、施加顯象劑到觀察結(jié)束的時(shí)間
A、10℃
B、20℃
C、30℃
D、40℃
A、2000/2Л[A/m]
B、1500/2Л[A/m]
C、1000/2Л[A/m]
D、500/2Л[A/m]
A、磁場(chǎng)的方向
B、磁場(chǎng)的定量大小
C、磁粉的磁性
D、磁粉的粒度
A、用榔頭敲擊
B、將零件放入直流磁化線圈中通電,并使電流逐漸降低
C、在退磁線圈中放30秒鐘
D、將退磁交流電調(diào)節(jié)到比原來(lái)磁化電流高的安培值,然后使工件從線圈中緩緩?fù)ㄟ^(guò)
最新試題
壓電晶體產(chǎn)生的壓電效應(yīng)主要有()。
產(chǎn)生干涉的兩列相干波,在振動(dòng)時(shí)會(huì)產(chǎn)生不同的波程差,波程差與波長(zhǎng)相關(guān)聯(lián),所以不同的波程差會(huì)出現(xiàn)()等現(xiàn)象。
確定滲透劑是否具有高的滲透能力的主要參數(shù)有()。
用縱波直探頭確定缺陷平面位置時(shí)需要考慮的問(wèn)題有()。
筒形或環(huán)形鍛件的鍛造工藝是先鐓粗,后沖孔,再滾壓。因此,缺陷的取向比軸類(lèi)鍛件和餅類(lèi)鍛件中的缺陷取向復(fù)雜。所以對(duì)這類(lèi)鍛件一般采用()進(jìn)行檢測(cè)。
各種電氣設(shè)備都有各自的保護(hù)系統(tǒng),X 射線機(jī)的保護(hù)系統(tǒng)主要有()。
定影液在使用過(guò)程中定影劑不斷消耗,造成(),使定影速度減慢,所需的定影時(shí)間越來(lái)越長(zhǎng),此現(xiàn)象稱(chēng)為定影液的老化。
用半價(jià)層描述的某種能量的射線是指()。
屬于γ射線探傷設(shè)備的操作故障有()。
常用的顯像方法包括()。