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A.黑度檢查
B.靈敏度檢查
C.背散射檢查
D.搭接情況檢查
A.橫波聲速大于表面波聲速
B.縱波聲速大于橫波聲速
C.表面波聲速大于縱波聲速
D.縱波聲速小于橫波聲速
A.顯像劑粉是吸附質(zhì)
B.顯像劑粉是吸附劑
C.滲透劑是吸附質(zhì)
D.滲透劑是吸附劑
A.探測(cè)缺陷尺寸
B.探測(cè)缺陷形狀
C.探測(cè)缺陷位置
D.發(fā)現(xiàn)缺陷大小
A.照射場(chǎng)越大，散射比越大
B.當(dāng)照射場(chǎng)直徑超過(guò)50mm后，散射比隨照射場(chǎng)的增大而減小
C.當(dāng)照射場(chǎng)較小時(shí)，散射比隨照射場(chǎng)的增大而增大
D.用極小的照射場(chǎng)透照時(shí)，照射場(chǎng)大小對(duì)散射比幾乎沒(méi)影響
A.測(cè)量底片反差
B.測(cè)量底片上焊縫黑度
C.測(cè)量熱影響區(qū)黑度
D.測(cè)定底片黑度是否滿足標(biāo)準(zhǔn)要求
A.兩波互相疊加，合振幅最小
B.兩波互相疊加，合振幅最大
C.兩波互相抵消，合振幅最大
D.兩波互相抵消，合振幅最小
A.探頭聲束是否有偏離
B.探頭是否有雙峰
C.信號(hào)幅度最小時(shí)缺陷不在探頭正下方
D.信號(hào)幅度最小時(shí)缺陷正好在探頭正下方
A.原子序數(shù)小
B.原子序數(shù)大
C.耐高溫
D.不耐高溫
A.直探頭
B.雙晶直探頭
C.斜探頭
D.雙晶斜探頭
最新試題
磁粉檢測(cè)用的黑光燈發(fā)出的光包含有（），而把不需要的光線用濾光片過(guò)濾掉。
影響定影的因素主要有（）。
當(dāng)障礙物尺寸Df< < 波長(zhǎng)λ時(shí)，會(huì)出現(xiàn)以下（）等現(xiàn)象。
下列關(guān)于顯像劑粉末吸附缺陷中滲透劑的說(shuō)法正確的有（）。
目前主要用的是數(shù)顯式黑度計(jì)，主要作用有（）。
筒形或環(huán)形鍛件的鍛造工藝是先鐓粗，后沖孔，再滾壓。因此，缺陷的取向比軸類(lèi)鍛件和餅類(lèi)鍛件中的缺陷取向復(fù)雜。所以對(duì)這類(lèi)鍛件一般采用（）進(jìn)行檢測(cè)。
下列關(guān)于照射場(chǎng)的大小對(duì)散射比的影像的說(shuō)法，錯(cuò)誤的有（）。
后乳化型熒光滲透劑本身不含乳化劑，不起乳化作用，需經(jīng)乳化后才能用水清洗，不易被去除，可以用于（）的檢驗(yàn)。
組成滲透液的物質(zhì)很多，為保證其使用性能，除了主要的紅色染料外，又添加了（）等物質(zhì)。
用縱波直探頭確定缺陷平面位置時(shí)需要考慮的問(wèn)題有（）。