陽圖型PS版防止除臟曝光過度，可減少二次曝光時間。

在曬版過程中用到的化學(xué)藥品有的屬于光敏性物質(zhì)，具有光不穩(wěn)定性，有的具有強(qiáng)腐蝕性或劇毒性，而有的則是易燃易爆品，所以必須全面了解這些藥品的基本性能，防止發(fā)生危險和不必要的事故。

版基是印版圖文的載體，起著支撐印刷圖文的作用，而我們在平版曬版中所使用的PS版屬于金屬版基。

燈距是影響曝光速度與勻度的因素。當(dāng)光源一定時，版面照度與燈距平方成反比，照度均勻度與燈距成正比關(guān)系。

掃描的圖像不夠清晰，可用銳化濾鏡來進(jìn)行彌補(bǔ)。

曬版過程基本上是一個物理加工過程，它涉及到一定的光物理知識、表面物理性能等物理基礎(chǔ)知識。

采用面光源曬版時，可通過縮小燈距和使用分光格將面光源分割成局部點(diǎn)光源等方式。既可提高曝光速度，又可減少散射光和漫射光。

鏈接的圖層可以同時進(jìn)行移動、縮放和填充等操作。

只有將文字圖層?xùn)鸥窕螅拍軐ζ溥M(jìn)行扭曲和透視的變換操作。

理論上講，感光版的反差系數(shù)較小，原版網(wǎng)點(diǎn)為實(shí)點(diǎn)時，只要曝光量大于感光版的臨界光能，就能得到良好的網(wǎng)點(diǎn)再現(xiàn)效果，曝光的寬容度就大。