為達(dá)到在一定空間擴(kuò)大MRO膜與鹽水接觸面積的目的，整個膜組件設(shè)計(jì)成層層包裹的卷筒形。

預(yù)處理器上表面形成浮泥，通過上排泥口定時排放。

電槽崗位負(fù)責(zé)二次鹽水精制、電解槽、淡鹽水脫氯的安全穩(wěn)定運(yùn)行，燒堿、氫氣、氯氣的外供。

電解槽解體檢修時，冷卻電解槽，電解液溫度降至40℃以下，排放電解液。

粗鹽水在一定壓力下通過平均孔徑為0.2μm的ZF膜，使雜質(zhì)被隔阻，從而得到純凈的精鹽水。

原鹽由輸送帶輸送至化鹽桶中心桶，保持化鹽桶中心桶始終滿鹽。

嚴(yán)格控制化鹽桶內(nèi)鹽層高度穩(wěn)定，杜絕鹽層大幅波動，容易造成預(yù)處理器返渾。

燒堿是一種強(qiáng)堿、腐蝕性很強(qiáng)。特別是高溫、高濃度的燒堿能使鋼鐵、含硅材料等內(nèi)部結(jié)構(gòu)改變、強(qiáng)度下降，但鑄鐵及金、銀、鎳等少數(shù)金屬耐高溫、高濃度燒堿。

ZF膜過濾器過濾周期及排泥周期是固定的。

機(jī)泵啟動前應(yīng)保持密封腔內(nèi)充滿液體，對于易凝固、易結(jié)晶的介質(zhì)采取伴熱、保溫措施。