A．產(chǎn)生強顯示；
B．產(chǎn)生弱顯示；
C．不產(chǎn)生顯示；
D．產(chǎn)生模糊顯示
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A．與缺陷寬深比無關(guān)；
B．缺陷深度至少是其寬度的5倍；
C．缺陷的寬深比為1；
D．以上都不是
A．與磁場成180°角；
B．與磁場成45°角；
C．與磁場成90°角；
D．與電場成90°角
A、影響零件的磁導(dǎo)率
B、對磁場強度無影響
C、改變磁場強度
D、改變磁場方向
A．安培數(shù)；
B．安匝數(shù)；
C．瓦特數(shù)；
D．歐姆數(shù)
A．周向磁場；
B．縱向磁場；
C．與電流類型有關(guān)；
D．間歇磁場
最新試題
相關(guān)顯示是由漏磁場吸附磁粉形成的磁痕顯示。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：剩磁應(yīng)不大于0.3mT（240A/m）。
采用剩磁法時，磁懸液應(yīng)在通電結(jié)束后再施加，一般通電時間為2～3s。
材料磁導(dǎo)率低（剩磁大）及直流磁化后，退磁磁場換向的次數(shù)（退磁頻率）應(yīng)較多，每次下降的磁場值應(yīng)較小，且每次停留的時間（周期）要略長。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：檢測后加熱至600℃以上進(jìn)行熱處理的工件，一般可不進(jìn)行退磁。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：兩條或兩條以上缺陷磁痕在同一直線上且間距不大于2mm時，按一條磁痕處理，其長度為兩條磁痕之和加間距。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：采用軸向通電法和觸頭法磁化時，為了防止電弧燒傷工件表面，應(yīng)將工件和電極接觸部分清除干凈或在電極上安裝非導(dǎo)電物質(zhì)。
標(biāo)準(zhǔn)試塊主要用于檢驗磁粉檢測的系統(tǒng)靈敏度，確定被檢工件的磁化規(guī)范。
熒光磁粉檢測時，磁痕的評定應(yīng)在暗室或暗處進(jìn)行，暗室或暗處可見光照度應(yīng)不小于20Lx。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：大型工件可使用交流電磁軛進(jìn)行局部退磁或采用纏繞電纜線圈分段退磁。