氣分裝置脫乙烷塔塔頂溫高，是由于（）引起。

碳四裝置再生系統(tǒng)再生前必須確定（）是合格的。

對于氣體分餾裝置，在塔底溫度穩(wěn)定的情況下，一般塔頂壓力的控制方法是采用調(diào)節(jié)冷卻器的（）溫度和調(diào)節(jié)回流量的方法來調(diào)節(jié)塔頂?shù)膲毫Α?/p>

碳四裂解反應(yīng)產(chǎn)物有（）

換熱器中需要冷卻降溫的介質(zhì)走向一般為（）

氣溫升高時，氣體分餾裝置在操作上應(yīng)（）

進(jìn)萃取裝置原料中異丁烷含量過高有利于提高（）

液化氣引進(jìn)塔后，趕氮?dú)饨Y(jié)束，塔底通熱源以后，會發(fā)生塔底液面急速下降，此時這些液態(tài)烴原料到（）去了。

碳四裂解裝置加熱反應(yīng)系統(tǒng)結(jié)焦危害是（）

氣分裝置分餾塔進(jìn)料口位置應(yīng)（）