A.硬度≈0,二氧化硅≤100μmol/L,電導(dǎo)率≤5μS/cm; B.硬度≈0,二氧化硅≤50μmol/L,電導(dǎo)率≤5μS/Cm; C.硬度≈0,二氧化≤100μmol/L,電導(dǎo)率≤0.2μS/cm; D.硬度≈0,二氧化硅≤100μmol/L,電導(dǎo)率≤10μS/cm。
A.15~20℃; B.30~40℃; C.40~50℃; D.50~60℃。
A.水沖洗后,投入硅整流,投入淡水加酸; B.水沖洗后,投入硅整流,投入淡水加酸; C.水沖洗后,投入硅整流,根據(jù)需要投入濃水加酸; D.水沖洗后,投入濃水加酸,投入極水加酸,然后投入硅整流。