A.掃描速度
B.分辨力
C.穿透能力
D.靈敏度
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A.CSK-ⅠA 試塊
B.CSK-ⅢA 試塊
C.ⅡW 試塊
D.半圓試塊
A.人員應(yīng)具備的資格
B.所需設(shè)備器材
C.檢測(cè)工藝
D.缺陷的質(zhì)量分級(jí)
A.不以退磁
B.能實(shí)現(xiàn)多向磁化
C.探測(cè)缺陷深度小
D.有利于磁粉遷移
A.D=2時(shí)的最小梯度
B.D=4時(shí)的最大梯度
C.D=2時(shí)的最大顆粒度
D.D=2時(shí)的最大梯度噪聲比
A.氧化鎂
B.氧化鋅
C.碳酸鈉
D.氧化鈦
最新試題
滲透檢測(cè)通常在()前進(jìn)行,表面處理后局部加工時(shí)需再次檢測(cè)。
壓電晶體產(chǎn)生的壓電效應(yīng)主要有()。
探傷儀面板上負(fù)責(zé)掃描電路的控制旋鈕有()。
產(chǎn)生干涉的兩列相干波,在振動(dòng)時(shí)會(huì)產(chǎn)生不同的波程差,波程差與波長(zhǎng)相關(guān)聯(lián),所以不同的波程差會(huì)出現(xiàn)()等現(xiàn)象。
下列關(guān)于照射場(chǎng)的大小對(duì)散射比的影像的說法,錯(cuò)誤的有()。
金屬材料的基本力學(xué)行為是指金屬材料在不同載荷作用下產(chǎn)生一些現(xiàn)象,這種現(xiàn)象包括()。
對(duì)底片進(jìn)行評(píng)定時(shí),首先對(duì)底片進(jìn)行質(zhì)量檢查,不滿足要求的底片不予評(píng)定,質(zhì)量檢查項(xiàng)目有()。
標(biāo)準(zhǔn)試塊具有規(guī)定的(),這是標(biāo)準(zhǔn)試塊的基本要求。
下列關(guān)于顯像劑粉末吸附缺陷中滲透劑的說法正確的有()。
影響定影的因素主要有()。